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处理装置关注排行  |
反应离子刻蚀机（RIE） 反应离子刻蚀机（RIE）
生产商：
品牌：
七星华创
刻蚀介质：
氮化硅、多晶硅、砷化镓、磷化铟及铝等多种介质
刻蚀速率：
3000～6汉阳科技版权所有000埃/分
均匀性：
±5%
选择比：
5:1
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生产商：
品牌：
七星华创
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刻蚀速率：
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均匀性：
±5%
选择比：
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